关于涂覆在基板上的感光剂“光刻胶”，日本经济产业省针对特定企业间的交易调整了政策，但对韩出口加强管制政策并未撤回。
据日媒报道，日本经济产业省于12月20日对韩国的半导体材料出口管制政策进行了重新审查，关于涂覆在基板上的感光剂“光刻胶”，针对特定企业间的交易调整了政策：能够获得许可的期限从目前的原则上半年增至最长3年。
据悉，日本7月对光刻胶、用于清洗半导体的“氟化氢”以及用于智能手机有机EL显示屏的“氟化聚酰亚胺”三种产品加强了对韩出口管制。此前的政策是，向对韩出口企业发放有效期3年的许可，省略个别申请。但7月4日以后变为对每份合同逐一审核并判断是否允许出口，有效期也改为原则上半年，政策变得更加严格。
经产省就本次政策调整说明称，关于光刻胶以外的两种材料，或将根据日韩企业间的实际业绩情况决定是否放宽出口管制。但经产省强调本次做法只是个别企业间交易的修改，并非撤回对韩出口加强管制本身。
为什么光刻胶会成为贸易战的重点之一？
一方面是由于光刻胶有保质期，或许短期内由于库存等因素，韩企受到的影响并不大，但是随着时间的推移，韩企受到的影响会日益严峻。另一方面是日企在光刻胶领域几乎是处于技术与市场双垄断的局面。
例如193nm光刻胶，目前除了美国的杜邦之外，基本都在日本，韩国虽然有对193nm光刻胶方面有一定的技术储备，但是与日企相去甚远。至于EUV光刻胶，真正能够提供性能可靠的EUV光刻胶的企业都是日企，杜邦目前仍然在研发阶段，韩国对此则基本为零。
由此可见，在日韩贸易战上，光刻胶可以说是一柄有利的杀手锏，直接刺进韩国电子行业的命脉。
正所谓前车之鉴，后车之师。中国在光刻胶等半导体原材料上的投入也需要加大。虽然当今世界倡导贸易全球化，但是谁也说不准什么时候就会出现日韩这样的情况，国产替代可谓是势在必行。
进入20世纪以来，光刻胶进入了高速发展的阶段，全球光刻胶的产值从2010年55.5亿 美元增长至2018年的约85.5亿，年复合增长率约为6%。据IHS预测，光刻胶未来消费量以年均5%的速度增长，至2022年全球光刻胶市场规模可超过100亿美元。
国内光刻胶需求量方面，2011年光刻胶需求量为3.51万吨，到2017年需求量为7.99万吨，年复合增长率达14.69%。
国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大。由于中国大陆光刻胶起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品，TFT-LCD、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能极少。
根据中国产业信息网数据，从下游市场应用结构来看，我国PCB光刻胶产值占比为94.4%， 而 LCD 和半导体用光刻胶产值占比分别仅为2.7%和1.6%。
为了推动光刻胶等材料国产化发展，国家也推出了相关政策支持产业发展。如2017年12月，发改委印发《新材料关键技术产业化实施方案》，提出发展高端专用化学品，包括KrF(248nm)光刻胶和ArF光刻胶(193nm)，为大型和超大型集成电路提供配套。
在国内政策推动下，中国光刻胶得到快速发展。
从技术水平来看，在PCB领域，国产光刻胶具备了一定的技术和量产能力，已经实现对主流厂商大批量供货。
容大感光、广信材料、东方材料、飞凯材料、永太科技等在内的大陆企业占据国内46%左右湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨市场份额。
技术门槛更高的LCD光刻胶，国内也有所突破，主要飞凯材料、永太科技、苏州瑞红（晶瑞股份100%控股）和北京科华微电子（南大光电持股31.39%）。
飞凯材料已经在高端的湿膜光刻胶领域通过下游厂商验证，CF光刻胶已经通过华星光电验证。
晶瑞股份（苏州瑞红）承担了国家重大科技项目02专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目并通过验收，在国内实现了i线（365nm）光刻胶量产，并在中芯国际、扬杰科技、士兰微等知名半导体厂通过了单项测试和分片测试，取得了客户的产品认证。
同时，子公司苏州瑞红研发的RZJ-325系列光刻胶、高粘附性光刻胶RFJ-210G、TFT-Array 光刻胶部分产品、厚膜光刻胶RZJ-T3520 等光刻胶产品也取得重大进展将逐步推向市场。
北京科华现代化光刻胶生产线主要以g线和i线正胶为主， 分辨率最高能够达到350nm 的水平。到2009年5月，建成g/i线正胶生产线（500 吨/年）和正胶配套试剂生产线（1000 吨/年）。
国产高端应用的光刻胶大多还处于研发或者送样阶段，与国外企业有很大的差距。不过，随着国内企业持续加大研发投入和创新，高端光刻胶国产化进程有望提速，这将逐渐降低我国对高端光刻胶的进口依赖程度，加速提升高端光刻胶国产替代的发展空间。
来源：膜链
