OLED微型显示器是一种具有自发光、功耗低、抗震性强、耐低温、超轻薄、响应速度快等优势的显示设备，与CRT、LCD显示器相比，具有较大的优势，因此呈现出逐步替代的趋势。
如今，OLED微型显示器技术正在迅速发展，良品率较低，导致成本和售价相对较高，因此目前主要应用于以瞄准观察系统、头盔系统、模拟训练系统等为代表的军用领域，并呈现出需求快速增长态势。
随着OLED微型显示器生产技术的不断成熟，良品率提高使得成本和价格下降，市场渗透率将进一步提升，在对价格更为敏感的民用消费电子领域具有广阔的发展空间。
为了更深度地了解OLED微显示生产及技术，今天来介绍OLED微型显示器生产涉及的四项核心技术：
一、基于硅基板的高密度阳极像素点制作技术
硅基顶发射OLED微型显示器的工艺制程要求不同于底发光OLED显示器件，在整个OLED微型显示器的制备过程中，阳极像素制备是基础。OLED微型显示器像素点尺寸及像素间距较小，对于显示器像素点的制作工艺有很高的要求。
OLED微型显示器的像素点制作以光刻为主要技术手段，根据单元显示器像素结构排布图形及结构，制备满足产品分辨率的像素图形。光刻技术直接影响到显示器的像素点结构和质量，进而影响OLED微型显示器的光电特性和寿命。
本技术采用i-线光刻技术实现高精度像素点图形制备，着重解决像素点之间漏电、串电、子像素坏死、工艺兼容性难等技术问题，将细微的阳极与阳极之间隔离并保证每个电极的图形完整性，进而提高发光亮度、色彩均匀性等光电特性及良品率水平。
二、顶发射OLED多层阳极结构设计、制备技术
阳极表面状态直接影响空穴的注入和阳极与有机薄膜层间的界面电子状态及有机材料的成膜性。如果阳极表面不平整，在不平整的细粒之间所形成的路径会提供空穴直接射向阴极的机会，会使漏电流增加。
本技术在配合低电压有机发光结构上，突破了单一阳极结构的模式，选用了高导电率、易镀及经济的材料，用PVD法在硅衬底上制作阳极电极，降低了薄膜表面的起伏，减少了空穴直接射向阴极的机会，降低了漏电流、显示器的发热和功耗，其性能更优越，从而获得具有较好电学性能、粘附性能、光反射性能的电极。
三、顶发射OLED有机发光结构设计、制备技术
硅基OLED微型显示器是采用白光+彩色过滤层的方式实现彩色化显示，如何设计和制备满足要求的白光有机发光结构是实现器件全彩色化显示的关键。
本技术基于白光实现原理，采用了三基色掺杂和有机功能层结构优化设计的方式实现低电压白光器件制备，优化了器件结构设计，开发了一种新型多层有机发光结构和制备方法，工程化强、缩短生产周期、大大降低了生产成本、提高发光效率、实现器件低功耗。
四、低缺陷高密度多层密封薄膜技术
密封工艺是影响全球OLED量产的关键技术问题。一旦OLED暴露于湿润的环境和空气中，有机发光膜将失去其发光功能。如何根据OLED材料的特性设计一种高效，低缺陷，高密度的薄膜密封技术来有效地密封OLED微型显示器，是制备OLED微型显示器的关键问题。
在该技术中，使用金属氧化膜和一层高分子有机膜来密封有机发光显示器件。金属氧化膜能隔绝对OLED显示器伤害较大的水氧杂质，防止金属层的氧化，提高抗蚀性能，明显降低器件退化衰变的速率、提高有机发光显示器的寿命。
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